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国产VA精品午夜福利视频告訴你,塑(sù)料模具的拋光處理

文章來源(yuán): 国产VA精品午夜福利视频模具 人氣:8089 發表時間:2018-11-19 16:02:43

[導讀]:隨著(zhe)塑料製品日溢廣泛的應用,如日化用(yòng)品和飲料包裝容器等,外觀的需要往(wǎng)往要求塑料(liào)模具型腔的表麵達到鏡麵拋光的程度。

隨著塑料製品日溢廣泛的應用,如日化用品和飲料包裝容器等,外觀的需要往往要求塑料模具(jù)型腔的表麵達到鏡麵拋光的程度。而生產光學鏡片、鐳射唱片等模具對表麵粗糙度要求極(jí)高,因而(ér)對拋光性的要求也極高。

拋光不僅增加(jiā)工件的美觀,而且能夠改善(shàn)材料表麵的耐腐蝕性、耐磨性(xìng),還可以使模(mó)具擁有其它優點,如使塑料製品易於脫模,減少生產注塑周期等(děng)。因而拋光在塑料模具製作過程中是很重要的一(yī)道工序。

目前常用的拋光方法有以下幾(jǐ)種:

1.1 機械拋光

機械拋光是*切削、材料表麵塑性變形去掉被拋光(guāng)後的凸(tū)部而得到平(píng)滑麵的拋光方法,一般使用油(yóu)石條、羊毛輪、砂紙等,以(yǐ)手工(gōng)操作(zuò)為主,特殊零件如回轉體表麵,可使用轉台等輔(fǔ)助工具,表麵質量 要求高的可采用超精研拋的方法。

超精研拋是采用特製的磨具,在含有磨(mó)料的研拋液中,緊壓在工件被加工表麵上,作高速旋轉運動。利用該技術可以(yǐ)達到Ra0.008μm的表麵粗糙度,是各種拋光方法(fǎ)中最(zuì)高的。光學鏡片模具常采用這種方(fāng)法。

1.2 化學拋光

化學拋光是讓材料在(zài)化學介質中(zhōng)表麵微觀凸(tū)出的部分較凹部分優(yōu)先溶解,從而得到平滑麵。這(zhè)種方(fāng)法(fǎ)的主要優(yōu)點是不需複雜設備,可以拋光形(xíng)狀(zhuàng)複雜的工件,可以(yǐ)同時(shí)拋光很多工件,效率高。化學拋光的核心(xīn)問題是拋光液的配製。化(huà)學(xué)拋光得到的表麵粗糙度(dù)一(yī)般為數(shù)10μm。

1.3 電解拋光

電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同,即*選擇性的(de)溶解(jiě)材料表麵微小凸出部分,使表(biǎo)麵光滑。與(yǔ)化學拋光相比,可以消除陰極反應的影響,效果較好。電化(huà)學拋光過程分為(wéi)兩步:

(1)宏觀整平 溶(róng)解產物向電解液中擴散,材料表麵幾何粗糙下降,Ra>1μm。

(2)微光平整 陽極極化,表麵光亮度提高,Ra<1μm。

1.4 超聲波拋光

將工件放入磨料懸浮液中(zhōng)並一起置於超聲波場中(zhōng),依*超聲波的振(zhèn)蕩作用,使磨料在工件表麵磨(mó)削拋光。超聲波(bō)加(jiā)工宏觀力小,不會引起工件變形,但(dàn)工裝製作和安裝較(jiào)困難。超(chāo)聲波加工可以與化學或電化學方法結合。在溶液腐(fǔ)蝕、電解的基礎上,再施加超聲波振動攪(jiǎo)拌溶液,使工(gōng)件表麵溶(róng)解產物脫離,表麵附近(jìn)的腐蝕(shí)或電解質均勻;超聲波在液體中的空化作用還能夠抑(yì)製腐蝕(shí)過程,利於表麵(miàn)光(guāng)亮化

1.5 流體拋光

流體拋光是依(yī)*高速流動的液體及(jí)其攜帶的磨粒衝(chōng)刷工件表麵達到(dào)拋光的目的。常(cháng)用方法有:磨料噴射加工、液(yè)體(tǐ)噴射加(jiā)工(gōng)、流體動力研磨等。流體動力研磨是由(yóu)液(yè)壓驅動(dòng),使攜帶磨粒的液體介質高速往複流過工件表麵。介質主要采用(yòng)在較低壓(yā)力下流過性好的特殊化合物(聚合物狀物質)並摻上磨料製成,磨料可采用碳化矽粉末(mò)。

1.6 磁研磨(mó)拋光

磁(cí)研磨拋光是利用(yòng)磁性磨料在磁場作用下形成磨料(liào)刷,對工件磨削加工。這種方法加工效率高,質量好,加工條件容(róng)易控製(zhì),工(gōng)作條件好。采用合適的磨料(liào),表(biǎo)麵(miàn)粗糙度可以達到Ra0.1μm。

在塑料模具加工中所說的拋光與其他行業中所要求的表麵(miàn)拋光有很大的不同,嚴格來說,模具的拋光應該(gāi)稱為(wéi)鏡麵加工(gōng)。它不僅對拋光(guāng)本身有很(hěn)高的要求並且對表麵平整度、光滑度以及幾(jǐ)何精確(què)度也有很(hěn)高的(de)標準。表(biǎo)麵拋光一(yī)般隻要求獲得光亮的表(biǎo)麵即可。

鏡麵加工的標準分為四級:AO=Ra0.008μm,A1=Ra0.016μm,A3=Ra0.032μm,A4=Ra0.063μm,由於(yú)電解(jiě)拋光(guāng)、流體拋光(guāng)等方法很難精確控製零件的幾何精確度,而化學拋光、超聲波拋(pāo)光、磁研磨(mó)拋光等方法的表(biǎo)麵質量又達不到要求,所以精密(mì)模具(jù)的鏡麵加工還是以機械拋光為主。

機械(xiè)拋光基本程序

要想獲得高質量的拋光效(xiào)果,最重要的是(shì)要具備有高質量的油石、砂紙和鑽石研磨(mó)膏等拋光(guāng)工具和輔助品。而拋光程序(xù)的選擇取決於前期(qī)加工後的(de)表麵狀況(kuàng),如機械加工、電火花加工,磨加工等等。機械拋(pāo)光的一(yī)般(bān)過(guò)程如下:

1、粗拋

經銑、電火花、磨等(děng)工藝後的表麵可以選擇轉速在35 000—40 000 rpm的旋轉表麵拋光機或超聲波研磨機進行拋光。常用的方法有利用直徑Φ3mm、WA # 400的輪子去(qù)除白色電火花層。然後是手工油石研磨,條狀油石加煤油作為潤滑劑或冷卻劑。一般的使用順序為#180 ~ #240 ~ #320 ~ #400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000。許多模具製造(zào)商為(wéi)了節約時間而選擇(zé)從#400開始(shǐ)。

2、半精拋(pāo)

半(bàn)精拋主要使用砂紙和煤(méi)油。砂紙的號數依次為:#400 ~ #600 ~ #800 ~ #1000 ~ #1200 ~ #1500。實際上#1500砂紙隻用適於(yú)淬硬的模具鋼(52HRC以上),而不適(shì)用於預硬鋼,因為這樣可能會導致預(yù)硬鋼件表麵燒傷。

3、精拋

精拋主要使用鑽石研磨(mó)膏。若(ruò)用拋光布輪混合鑽石研磨粉或研磨膏(gāo)進行研磨的話,則通常的研磨順序是9μm(#1800)~ 6μm(#3000)~3μm(#8000)。9μm的鑽石研磨膏和拋光布輪可用來去除#1200和#1500號砂紙留下的發狀磨痕。接著用粘氈和鑽石(shí)研磨膏進行拋光,順序為1μm(#14000)~ 1/2μm(#60000)~1/4μm(#100000)。

精度要求在1μm以上(包括1μm)的(de)拋光(guāng)工藝在模具加工車間中一個清潔的(de)拋光(guāng)室內即可進行。若進行更加(jiā)精密的拋光則必需一個絕對潔淨的空間。灰塵(chén)、煙霧,頭皮屑和口水沫(mò)都有可能報廢(fèi)數個小時工作後得到的高精密拋(pāo)光表麵(miàn)。

機械(xiè)拋光中要注意的問(wèn)題

用砂紙拋(pāo)光(guāng)應注意以下幾點:

1、用砂紙拋光需要利用軟(ruǎn)的木棒(bàng)或竹(zhú)棒。在(zài)拋光圓麵或球麵時,使用軟木棒可更好的配合圓麵和球麵的(de)弧度。而較硬的木條像櫻桃(táo)木,則更適用於平整表麵的拋光。修整木條的末端使其能與鋼(gāng)件表麵形狀保持吻合,這樣可以避免木條(或竹條)的銳角接觸鋼(gāng)件表麵而造成較深的劃痕。

2、當換用不同型號的砂紙時,拋(pāo)光方向(xiàng)應變換45°~ 90°,這樣前一種型號砂(shā)紙拋光後留下(xià)的條紋陰影即可分辨出來(lái)。在換不同型號砂紙之(zhī)前,必(bì)須(xū)用(yòng)100%純棉花沾(zhān)取酒精之類(lèi)的清潔液對拋光(guāng)表麵進行仔(zǎi)細的擦拭,因為一顆很小的沙礫(lì)留在表麵都會毀壞接下去的整個拋光工作。從砂紙拋(pāo)光換成鑽石研磨膏拋光時(shí),這個清潔(jié)過程同樣重要。在拋光繼續進行之(zhī)前,所有顆粒和煤油都必須被完全清潔幹淨。

3、為了避免(miǎn)擦傷和燒傷工件表麵,在用#1200和#1500砂紙進(jìn)行拋光(guāng)時必須特別小心。因而有必要加(jiā)載(zǎi)一(yī)個輕載(zǎi)荷以及采用(yòng)兩步拋光(guāng)法對(duì)表麵進行拋光。用每一種型號的(de)砂(shā)紙進行拋光時都應沿兩(liǎng)個不同方向(xiàng)進行兩次拋(pāo)光,兩個方向之(zhī)間每次轉動45°~ 90°。

鑽石(shí)研磨拋光應注意以下幾點:

1、這種拋光必須盡量在較輕的壓力下進行特別是拋光預(yù)硬(yìng)鋼件和用細研磨膏拋光(guāng)時。在用#8000研磨膏拋(pāo)光時(shí),常用載(zǎi)荷為(wéi)100~200g/cm2,但要(yào)保持此載荷的精準(zhǔn)度很難做到。

為(wéi)了更容易做到這一點,可以在木條上做一個薄且窄的手柄,比如加一銅片;或者在竹條(tiáo)上切去一部分而使其更加(jiā)柔軟(ruǎn)。這樣可以幫助(zhù)控製拋(pāo)光壓力,以(yǐ)確保模具表麵壓力不會過高。

2、當使用鑽石研磨拋光時,不(bú)僅是(shì)工作表麵要求潔淨,工(gōng)作者的雙手也必須仔細(xì)清潔。

3、每次拋光時間不應過(guò)長,時間越短,效(xiào)果越好。如果拋光過程進(jìn)行得(dé)過長將會造成“橘皮”和“點蝕”。

4、為獲得高質量的拋光效果,容(róng)易發熱的拋光方法(fǎ)和工具都應避免。比如:拋光(guāng)輪拋光,拋光輪(lún)產生的(de)熱量會(huì)很容易造成“橘皮”。

5、當拋(pāo)光過程停止時,保證工件表麵(miàn)潔淨和仔(zǎi)細去除所有研磨劑和(hé)潤滑劑(jì)非常重要,隨後(hòu)應在表麵(miàn)噴(pēn)淋一層模具防鏽塗層。

由於機械拋光(guāng)主要還是*人工完成,所以拋光技術目(mù)前還是影響拋(pāo)光質量的主要原因。除此之外,還與(yǔ)模具材料、拋(pāo)光前(qián)的表(biǎo)麵狀況、熱處理工藝等有關。優(yōu)質的鋼材是獲得良好拋光質量的前提條件,如果鋼材表麵硬(yìng)度不均或特性上有(yǒu)差異,往往會(huì)產生拋光困難。鋼材中(zhōng)的各種夾雜物和(hé)氣孔都(dōu)不利於拋(pāo)光。

不同硬度對拋光工(gōng)藝的影響

硬度增高使研磨的困難增大,但拋光後的粗糙度減小。由於硬度的(de)增(zēng)高,要(yào)達到較低的粗糙度所需的拋光時間相應增長(zhǎng)。同時(shí)硬度(dù)增高,拋光過度的可能性(xìng)相應(yīng)減少。

工件表麵狀況對拋光工藝的影響

鋼(gāng)材在切削機械加工的(de)破碎過程中,表層(céng)會因熱量、內應力或其他因素而損(sǔn)壞,切削參數不(bú)當會影響拋光效果。電火花加工後(hòu)的表麵比普通機械加工或熱處理後的表麵更難研磨,因此電火花加工結束前應采(cǎi)用精規準電火花修整,否則表(biǎo)麵會形成硬化薄層。

如果(guǒ)電火花精修規準選擇不當,熱影響層的深度最大可達0.4mm。硬化薄層的硬度比基(jī)體硬度高,必須去除。因此最好(hǎo)增加(jiā)一道粗磨加工,徹底清除(chú)損壞表麵層,構成一片平均粗糙的金屬(shǔ)麵,為拋(pāo)光加工提供一個良好基礎。

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